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这美高中生 竟在自家车库造出芯片

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  旋匀晶圆上的光刻胶


  随后将晶圆放在约95度的电热板上干燥1分钟用来除去剩下的溶剂,在溶剂干燥后会留下一层固态薄膜。

  


  溶剂干燥后留下的固态薄膜

  然后将晶圆送入自制的无掩模光刻机中进行曝光,目的是将之前PS中的图像投影到芯片上,通过dlp投影仪把一些光学器件将图像缩小并投射至芯片。晶圆中心的蓝点是整个曝光场,它大约会持续9秒,当曝光一次结束后继续移动晶圆,以曝光其它区域。

  

  晶圆在无掩模光刻机中曝光


  下一个步骤是显影。首先把晶圆放在一定百分比的氢氧化钾溶液中约一分钟,从而蚀刻掉暴露的光刻胶部分,接着用水洗去残留的显影剂,并用显微镜检查以确保一切正常,如果出现了问题可以把光刻胶层揭掉,然后用不同的曝光或显影时间再来一次。

  


  蚀刻晶圆上的光刻胶

  光刻的图像是在光刻胶层中形成的,下一步是要用蚀刻剂把图像转移到多晶硅层,因此暂时不需要光刻胶掩膜层,可以用丙酮将其剥离。

  随后对芯片进行清洁干燥,然后加上磷溶液并进行旋转,接着在一千多摄氏度的高温下烘烤45分钟,这样才能将磷原子转移到刚才用光刻胶形成的小井中,以形成mosfet的源极和漏极。

  
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    共有 2 人参与评论    (其它新闻评论)
    评论1 游客 [麦.山.贤.隶] 2021-09-24 10:13
    手工複制40年前的量产芯片 这是抄袭不是创新 就如同已经大量生产的饼乾 你按照配方在家手工制造饼乾
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