中國稱實現國產DUV曝光機可生產8奈米及以下芯片

日期: 2024-09-15 | 來源: 中央社 | 有0人參與評論 | 字體: 小中大
中國工信部近日公布一項通知顯示，中國已取得重大技術突破，研發出深紫外光曝光機（DUV），可生產8奈米及以下芯片，目前正在推廣應用。不過，中國網友表示，工信部發布了這麼多訊息，卻避開了最關鍵的“良率”，就是想支持，也有點心虛，不踏實。

荷蘭ASML出產的曝光機日前限制對中國出售，但中國現宣布已推出國產DUV曝光機。翻攝ASML官網

中央社報導，中國工業和信息化部官網9日公布“首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）”的通知，下發地方要求加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同。

中國工信部稱，重大技術裝備是國之重器，事關綜合國力和國家安全。“中國首台（套）重大技術裝備”是指國內實現重大技術突破、擁有智慧財產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品，包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等。

這份目錄顯示，在積體電路生產裝備，其中一項是“氟化氬光刻機”（DUV曝光機），核心技術指標是“晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≦65nm，套刻≦8nm”。這也代表，這台國產DUV可生產8奈米及以下芯片。

中國大陸科技自媒體今天轉發消息後稱，中國自己的DUV曝光機終於來了，雖然與荷蘭艾司摩爾（ASML）曝光機存在代差，至少己填補空白，可控可用，期待之後能研發出更先進的極紫外光曝光機（EUV）。

美國5日才宣布收緊制造先進半導體設備所需機器的出口管制，荷蘭政府隔天跟進，宣布擴大限制半導體制造設備出口，。

路透社報導，ASML的1970i和1980i深紫外光曝光機（DUV）輸出中國會受到影響，兩款機型大約是ASML所屬DUV產品線的中階位置。

中國若實現國產8奈米及以下制程DUV，未來絕大多數芯片制造，將不用受制於ASML。不過，截至目前，尚無中國官方與廠商宣布這項消息。中國網友也稱，工信部發布了這麼多，就是沒有提到最關鍵“良率”，想支持也有點心虛。
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