中國芯片缺少的遠遠不只是光刻機 [有58人參與評論]

中國芯片缺少的遠遠不只是光刻機

日期: 2023-05-30 | 來源: 中央社 | 有58人參與評論 | 字體: 小中大
美國頒布禁令迫使中國急欲尋求芯片產製自主，但專家分析，中國芯片產業不只缺光刻機還有人才，其他像是設備、材料、設計、封裝、測試等領域，都需要更多有志者投入。

中國媒體騰訊科技30日報道，中國資深芯片研究專家汪波表示，一個典型的芯片技術，從實驗室研發到走向市場大約需要10年甚至更久，技術突破固然重要，穩定性、可制造性、良率也值得關注。

他說，即使是西方盟友之間也不可能分享最核心的芯片技術，只能通過自主研發，歐洲和日本的發展就是其中的例子。

而談到當前中國自主研發芯片面臨的瓶頸，汪波分析，中國不只缺高端光刻機以及相應的半導體材料，還急缺電子設計自動化（EDA）軟體。

他說：“沒有高端的EUV（極紫外光）光刻機，我們只是造不出最先進的芯片（芯片），而沒有了EDA設計軟件，所有的芯片設計公司都要停工。”

汪波表示，荷蘭半導體生產設備制造商艾司摩爾（ASML）經過多次延遲，最終克服難以想像的困難，2018年製成人類史上最精密的光刻機，每台成本高達2億美元。

他說，為打造EUV光刻機，艾司摩爾需要向全球數百家供應商采購零組件，而這些供應商又分佈哉娚兰、德国、葰直M⒚攔仁瀾綹韉兀獻韃龐辛私裉斕腅UV光刻機。

汪波表示，當然中國最缺的是人才，例如，EDA行業需要復合型的專才，既要懂寫程式和計算、又要懂半導體裝置或電路等，培養起來難且慢。

他說，此外，在芯片制造、設備、材料、設計、封裝和測試等領域，都需要更多有志於面對挑戰的人投入。

汪波指出，自主和全球化並行不悖，但芯片產品可藉由全球化取得，但不可能藉由全球化獲得芯片核心技術。

他說，當前國際情勢和趨勢依然影響著芯片技術的發展，例如受到科技脫鉤影響，中國從國外引進芯片技術的途徑受到限制以致業界感到陣痛，但如此也有助於下決心，以建立自主的完整研發生產鏈。
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