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日期: 2023-05-30 | 來源: 中央社 | 有58人參與評論 | 字體: 小 中 大
中國媒體騰訊科技30日報道,中國資深芯片研究專家汪波表示,一個典型的芯片技術,從實驗室研發到走向市場大約需要10年甚至更久,技術突破固然重要,穩定性、可制造性、良率也值得關注。
他說,即使是西方盟友之間也不可能分享最核心的芯片技術,只能通過自主研發,歐洲和日本的發展就是其中的例子。
而談到當前中國自主研發芯片面臨的瓶頸,汪波分析,中國不只缺高端光刻機以及相應的半導體材料,還急缺電子設計自動化(EDA)軟體。
他說:“沒有高端的EUV(極紫外光)光刻機,我們只是造不出最先進的芯片(芯片),而沒有了EDA設計軟件,所有的芯片設計公司都要停工。”
汪波表示,荷蘭半導體生產設備制造商艾司摩爾(ASML)經過多次延遲,最終克服難以想像的困難,2018年製成人類史上最精密的光刻機,每台成本高達2億美元。
他說,為打造EUV光刻機,艾司摩爾需要向全球數百家供應商采購零組件,而這些供應商又分佈哉娚兰、德国、葰直M⒚攔仁瀾綹韉兀獻韃龐辛私裉斕腅UV光刻機。
汪波表示,當然中國最缺的是人才,例如,EDA行業需要復合型的專才,既要懂寫程式和計算、又要懂半導體裝置或電路等,培養起來難且慢。
他說,此外,在芯片制造、設備、材料、設計、封裝和測試等領域,都需要更多有志於面對挑戰的人投入。
汪波指出,自主和全球化並行不悖,但芯片產品可藉由全球化取得,但不可能藉由全球化獲得芯片核心技術。
他說,當前國際情勢和趨勢依然影響著芯片技術的發展,例如受到科技脫鉤影響,中國從國外引進芯片技術的途徑受到限制以致業界感到陣痛,但如此也有助於下決心,以建立自主的完整研發生產鏈。- 新聞來源於其它媒體,內容不代表本站立場!
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