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_NEWSDATE: 2023-05-30 | News by: 中央社 | 有58人参与评论 | _FONTSIZE: _FONT_SMALL _FONT_MEDIUM _FONT_LARGE
中国媒体腾讯科技30日报道,中国资深芯片研究专家汪波表示,一个典型的芯片技术,从实验室研发到走向市场大约需要10年甚至更久,技术突破固然重要,稳定性、可制造性、良率也值得关注。
他说,即使是西方盟友之间也不可能分享最核心的芯片技术,只能通过自主研发,欧洲和日本的发展就是其中的例子。
而谈到当前中国自主研发芯片面临的瓶颈,汪波分析,中国不只缺高端光刻机以及相应的半导体材料,还急缺电子设计自动化(EDA)软体。
他说:“没有高端的EUV(极紫外光)光刻机,我们只是造不出最先进的芯片(芯片),而没有了EDA设计软件,所有的芯片设计公司都要停工。”
汪波表示,荷兰半导体生产设备制造商艾司摩尔(ASML)经过多次延迟,最终克服难以想像的困难,2018年製成人类史上最精密的光刻机,每台成本高达2亿美元。
他说,为打造EUV光刻机,艾司摩尔需要向全球数百家供应商采购零组件,而这些供应商又分佈在荷兰、德国、日本、美国等世界各地,经通力合作才有了今天的EUV光刻机。
汪波表示,当然中国最缺的是人才,例如,EDA行业需要复合型的专才,既要懂写程式和计算、又要懂半导体装置或电路等,培养起来难且慢。
他说,此外,在芯片制造、设备、材料、设计、封装和测试等领域,都需要更多有志于面对挑战的人投入。
汪波指出,自主和全球化并行不悖,但芯片产品可藉由全球化取得,但不可能藉由全球化获得芯片核心技术。
他说,当前国际情势和趋势依然影响著芯片技术的发展,例如受到科技脱钩影响,中国从国外引进芯片技术的途径受到限制以致业界感到阵痛,但如此也有助于下决心,以建立自主的完整研发生产链。- 新闻来源于其它媒体,内容不代表本站立场!
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