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日期: 2025-05-01 | 來源: 香港01 | 有0人參與評論 | 字體: 小 中 大荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）是目前唯一能生產EUV（極紫外光）光刻機的制造商，但被美國禁止向中國出售EUV光刻機，導致中國公司難以自行生產高端芯片。
不過內媒觀察者網等報道，中科院上海光學精密機械研究所由前ASML科學家林楠率領的團隊，近月成功開發出LPP-EUV光源，已達國際領先水平，對內地自主研發EUV光刻機具重大意義。
林楠團隊的研究成果近月發表於《中國激光》期刊。 公開信息顯示，EUV光刻機中最核心的分系統是激光等離子體（LPP）EUV光源，主要關注能量轉換效率（CE）。 二氧化碳激光器激發的Sn等離子體CE大於5%，是ASML光刻機的驅動光源，但此前這類光源由美國Cymer制造，在世界范圍內處於壟斷地位。
因此，林楠團隊考慮使用固體脈沖激光器代替二氧化碳激光作為驅動光源，但能量效率需要進一步提升。 目前林楠團隊1um固體激光的CE最高可達到3.42%，超過了荷蘭和瑞士研究團隊的水平，雖然沒有超過4%，但已經達到了商用光源5.5%轉化效率的一半。
林楠團隊研究人員估計，光源實驗平台的理論最大轉換效率可能接近6%，團隊正計劃增加進一步的研究，未來有望進一步實現國產EUV光刻技術。
林楠。 （中國科學院官網）
資料顯示，林楠是中科院上海光學精密機械研究所研究員，曾任ASML公司研發科學家、研發部光源技術負責人，曾主導ASML EUV光源研發的核心計劃，2021歸國。
不過，在4月的一次投資者電話會議上，ASML首席財務官戴厚傑（Roger Dassen）表示，中國進行的光刻機替代相關技術進展已有耳聞，中國確實有可能制造出EUV光源，但他相信，中國依然需要很多年才能造出一台先進EUV光刻設備。
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