IT之家2月11日消息，据TheElec报道，韩国EUV设备制造商ESOL首席执行官Kim Byung-gook在接受采访时表示，今年将推出其第二代EUV(极紫外)设备原型。
KimByung-gook说，该公司去年获得了350亿韩元的资金，其中大部分将用于研发。到目前为止，ESOL已经在其第一代产品线中推出了四款产品。其中，EUV掩模检查设备和EUV薄膜透光率检测机已经产生收入。
ESOL是芯片薄膜制造商FST的子公司，由曾在三星芯片业务部门工作的Kim Byung-gook于2018年创立。
IT之家了解到，ESOL主要开发EUV解决方案，专注于为EUV或极紫外光刻应用开发各种解决方案和设备。
其第一代产品线的另外两款产品，即EUV相位反转掩模机和用于光刻胶显影的光刻机，也有望在今年产生收入。
ESOL目前的四款产品中的主要产品是其薄膜透光率检测设备，在该领域它至少要面临两个竞争对手。
EUV掩模检查设备称为SREM330，拥有扫描反射EUV显微镜，还有称为FREM或全场反射EUV显微镜的配套设备正在开发中。
同时，ESOL公司EUV第二代阵容共有三款产品，其中一款将于今年推出。新设备将包括升级后的EUV掩模检查设备，可以扫描掩模的整个表面，而不是像第一代机器那样只扫描某些点。
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