02 | 林本坚与光刻技术

[size=16.00]02 | 林本坚与光刻技术[/size]

[size=25.00]他名叫林本坚，在[/size][size=25.00]越南出生的台湾人。从台湾大学电机工程学系毕业之后，去到了美国俄亥俄州立大学电机工程学系进行深造，并且获得了博士学+位，[/size]

[size=25.00]林本坚早期在IBM任职，2000年回到[/size][size=25.00]台湾加入了台积电，直到2015年退休。[/size]

[size=25.00]他在加入台积电之后，任台积电资深处长、杰出科技院士和副总经理。林本坚主要的研发方向，就是半导体制造当中的浸润式微影技术，也就是俗称的光刻技术。[/size]

[size=25.00]林本坚在光刻技术上面有着很强的技术引领性，他刚入职IBM的时候，只用了5年的时间，他就做出当时光刻领域最短波长的光线，他自己把它命名为深紫外线（DEEP Ultra-Violet，简称DUV）。[/size]

[size=25.00]可以这么说，各大厂商的DUV光刻机，都有林本坚的技术在里面。后来开发的EUV光刻机，就是在此基础上进行的技术革新。[/size]

[size=25.00]当然了，实现技术革新的这个人，还是林本坚。[/size]

[size=16.00]03 |光刻技术的发展[/size]

[size=25.00]在研发出DUV技术11年之后，林本坚意识到，原来的微影技术已经走到了尽头，很难再发展。当时光刻技术所能触及的最短波长，是157nm。[/size]

[size=25.00]这157nm的波长成为了全球光学专家共同想克服的困难，但是无从下手。[/size]

[size=25.00]随后，林本坚开始通过反向思维进行推算，能不能退回到193nm，然后在镜头和晶圆之间加入其他介质，实现更短的波长？[/size]

[size=25.00]然后他将水作为介质，加入了进去。根据林本坚的推算，193nm的波长经过水的折射之后，是可以达到134nm的。[/size]

[size=25.00]他将这种技术，称之为浸润式微影技术，也就是现在EUV光刻机所用到的技术。[/size]

[size=25.00]在研发浸润式微影技术的期间，林本坚来到了台湾，加入了台积电。[/size]

[size=25.00]台积电的老大张忠谋可是个狠人物，他深知林本坚这个人的实力强，在林本坚加入台积电之后，立马给他加官进爵，让他组建研发团队进行技术研发。[/size]

[size=25.00]荷兰的asml也早于佳能和尼康，看出了浸润式微影技术的发展前景，主动要求跟台积电进行合作。[/size]

[size=25.00]后来的情况大家应该都知道了，asml抢在所有同行前面生产出来了EUV光刻机，并且凭借着先进的设备在光刻机业务上面成为了老大。[/size]

[size=25.00]而台积电，也凭借着林本坚的技术和asml公司的设备，在晶圆代工行业上面独占大量市场份额。[/size]

[size=16.00]04 |林本坚不来大陆的原因[/size]

[size=25.00]现在的林本坚，已经[/size][size=25.00]在台湾清华大学担任特聘的研究讲座教授。[/size]

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