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艾司摩尔CEO:中国独立开发顶尖光刻机至少需要10年

文章内容
Posted by 逍遥 2022-01-21 13:38:08
中国最近几年积极发展晶片产业,但在人才与技术上遭遇许多障碍。全球半导体微影设备制造大厂、荷兰光刻机巨头艾司摩尔(ASML)近日表示,对中国出口设备仍未获得荷兰政府许可。该公司CEO彼得.温尼克(Peter Wennink)说,中国如果要尝试独立开发顶尖的光刻机技术,至少需要10年才能做得到。

据《路透》报导,彼得.温尼克日前受访时表示,公司迄今仍未获得许可,不能将任何最先进光刻系统运往中国。中国当然可以尝试开发制造大型精密光刻机的技术,但他不认为中国可以独立複制顶级光刻技术。他还犟调,ASML所依赖的是「不懈的创新」,而且组件只能从中国以外的供应商获得。

报导引述分析师的话称,由於美国施压,荷兰政府因此拒绝授予ASML 出口先进光刻机系统的许可证。而没有 ASML的最先进光刻机,中国恐怕难以生产高阶晶片,如果要自行开发相关技术与设备,估计中国至少需要10年才能自主制造顶尖的EUV光刻机。

ASML是目前全球最顶尖的光刻系统制造商,市佔率超过60%以上,据该公司2021年第2季度财报显示,艾司摩尔前3大设备出货地分别是南韩(39%)、台湾(36%)、中国(17%),当季该公司一共出货72套光刻系统(包括9台EUV)。
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