德語媒體:中國芯片制造技術取得重大突破?

2025-12-19 | 來源: 德國之聲 | 轉到微信 | 有0人參與評論 | 字體: 放大縮小 | 收藏 | 打印

德語媒體：中國芯片制造技術取得重大突破？

對於中國已成功造出一台極紫外光刻設備原型機的報道，…— DW 中文- 德國之聲 (@dw_chinese) December 19, 2025

對於中國工程師已成功建造出一台極紫外光刻（EUV）設備原型機的媒體報道，《新蘇黎世報》評論到，如果消息屬實，不僅意味著中國比預期更早地突破了高端芯片制造設備的瓶頸，也將對全球科技競爭產生重大影響。《法蘭克福匯報》則評論稱，歐洲人發明的EUV技術已經成了中美博弈的核心，也將決定歐洲人在未來全球科技版圖中的地位。

中國山東一家芯片公司（資料圖）

《新蘇黎世報》發表分析文章寫道，高端芯片是人工智能以及尖端軍事技術的基礎，因此一直以來都是中美博弈中的關鍵戰場。多年來，華盛頓通過出口管制和制裁手段，試圖切斷中國獲取高端芯片的途徑。但與此同時，中國也加快了芯片技術的自主研發，希望擺脫在這一領域對西方的高度依賴。這篇題為《中國可能在核心技術領域取得了突破》的分析文章寫道：

“中國明顯落後於西方的技術領域已經所剩無幾，而芯片制造設備就是其中之一。在西方，當前最先進的人工智能芯片都是通過極紫外光刻機（EUV）技術生產的。這是一種使用超短波長光線的光刻技術，能夠制造出極其細微的結構，從而使高性能芯片的制造成為可能。在全球范圍內，只有荷蘭的阿斯麥（ASML）能夠生產出這樣的高端芯片制造設備。也正因為如此，華盛頓從一開始就一直在阻撓北京獲得阿斯麥的高端設備。

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“只有荷蘭的阿斯麥（ASML）能夠生產出高端芯片制造設備”圖像來源: Ruffer/Caro/picture alliance

迄今為止，中國公司雖然也能利用相對落後的技術生產出用於人工智能的芯片，但成本相對更高。而西方專家普遍認為，只要中國工程師無法自行研發出EUV技術，中國就無法彌補在這一領域同西方的差距，甚至這一差距可能會越來越大。

然而，路透社的一則調查新聞則顯示，中國在EUV技術研發方面的進展，顯然已經遠遠超出西方專家的預期。據稱，今年年初，中國一個工程師團隊已經在深圳的一個廠區內成功制造出了一台EUV設備原型機。 ”

"中國的曼哈頓計劃”

《新蘇黎世報》援引路透社的消息報道稱，該EUV項目被內部人士稱為“中國的曼哈頓計劃”，足以顯示該項目的保密程度之高以及投入之巨大。而研發速度之所以如此驚人，則要歸功於一些高薪聘請來的前阿斯麥工程師：

“中國是否以及何時能將自主研發的EUV技術推向市場，目前尚無法斷言。與體量相當於一輛長途巴士的阿斯麥設備相比，深圳原型機的體積要大得多，需要占據整整一座廠房。此外，還有一些關鍵部件，如高精度鏡片也還未能達到質量要求。