为便于理解,我简单赘述一下ASML的封王之路。
在上世纪80年代,光刻机市场的王者是GCA与日本尼康。90年代初的时候,对相机和光学造诣颇深的尼康一度占据了光刻机市场60%以上的份额。变化发生在摩尔定律对技术指数化升级的更高要求之后。上百纳米时代的光刻机,门槛其实并不高,所以彼时才三十多人的ASML也能进去分一杯羹。一旦要求提高到几十,乃至十几纳米,上世纪90年代光源波长被卡死在193nm就成了光刻机的死结。
最后结果我们知道了,尼康沉迷于光源干刻法而被淘汰出局,ASML的浸润式技术路线,突破了这个门槛。荷兰的ASML成了这个领域的垄断者,占据了市场80%的市场份额。 尼康的出局与ASML的后来居上,看似技术路线选择的偶然,实则大谬。
事实上,在ASML制造出第一台浸润式光刻机的第二年,实力雄厚的行业老大尼康就迅疾跟上,造出了质量不相上下的浸润式光刻机。 问题在后劲,在全产业链能力。EUV光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。光源功率要求极高,透镜和反射镜系统也极致精密,光学系统复杂到令人崩溃,还需要真空环境,配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高。别说是日本与荷兰,就算是美国,想要一己之力自主突破这项技术,也是痴人说梦。
ASML背后,是英特尔1997年牵头攒起的一个叫EUV LLC的联盟,这个联盟包括了彼时最牛掰的科技公司摩托罗拉、AMD、IBM,后来的三星,台积电,以及美国能源部三大国家实验室:劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。6年时间里,EUV LLC的研发人员发表了数百篇论文,大幅推进了EUV技术的研究进展。2009年,美国又送给阿斯麦一份大礼:美国Cymer公司研发出EUV所需的大功率光源,直接供应ASML——这是光刻机的核心零件,这样顶尖的技术,全球范围也不超过三家。 当下ASML的光刻机,光源设备来自美国、蔡司镜头来自德国,光学技术由日本提供,制程技术则是台积电和三星支持。毫不夸张的说,阿斯麦虽是一家荷兰企业,但崛起的背后,其实是一场地地道道的美国牵头、全球合作式成功。惟其如此,它才能喊出“如果我们交不出EUV,摩尔定律就会从此停止”。
事实上,英特尔为了防止核心设备供应商一家独大,其实一直还在挺尼康并采购其设备。但单打独斗、自研为主的尼康,什么零件都能做,但又总是差点意思,稼动率最多只能达到50%左右,连大陆的芯片代工厂都看不上,生产出的设备,只能卖给三星、LG、京东方用来生产面板。曾经的霸主尼康,自此彻底零落在历史的尘埃之中。
殷鉴于前,面对这样的军令状,茅台放哪了?来一口,压压惊!