为便于理解，我简单赘述一下ASML的封王之路。
在上世纪80年代，光刻机市场的王者是GCA与日本尼康。90年代初的时候，对相机和光学造诣颇深的尼康一度占据了光刻机市场60%以上的份额。变化发生在摩尔定律对技术指数化升级的更高要求之后。上百纳米时代的光刻机，门槛其实并不高，所以彼时才三十多人的ASML也能进去分一杯羹。一旦要求提高到几十，乃至十几纳米，上世纪90年代光源波长被卡死在193nm就成了光刻机的死结。
最后结果我们知道了，尼康沉迷于光源干刻法而被淘汰出局，ASML的浸润式技术路线，突破了这个门槛。荷兰的ASML成了这个领域的垄断者，占据了市场80%的市场份额。 尼康的出局与ASML的后来居上，看似技术路线选择的偶然，实则大谬。
事实上，在ASML制造出第一台浸润式光刻机的第二年，实力雄厚的行业老大尼康就迅疾跟上，造出了质量不相上下的浸润式光刻机。 问题在后劲，在全产业链能力。EUV光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，光学系统复杂到令人崩溃，还需要真空环境，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高。别说是日本与荷兰，就算是美国，想要一己之力自主突破这项技术，也是痴人说梦。
ASML背后，是英特尔1997年牵头攒起的一个叫EUV LLC的联盟，这个联盟包括了彼时最牛掰的科技公司摩托罗拉、AMD、IBM，后来的三星，台积电，以及美国能源部三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。6年时间里，EUV LLC的研发人员发表了数百篇论文，大幅推进了EUV技术的研究进展。2009年，美国又送给阿斯麦一份大礼：美国Cymer公司研发出EUV所需的大功率光源，直接供应ASML——这是光刻机的核心零件，这样顶尖的技术，全球范围也不超过三家。 当下ASML的光刻机，光源设备来自美国、蔡司镜头来自德国，光学技术由日本提供，制程技术则是台积电和三星支持。毫不夸张的说，阿斯麦虽是一家荷兰企业，但崛起的背后，其实是一场地地道道的美国牵头、全球合作式成功。惟其如此，它才能喊出“如果我们交不出EUV，摩尔定律就会从此停止”。
事实上，英特尔为了防止核心设备供应商一家独大，其实一直还在挺尼康并采购其设备。但单打独斗、自研为主的尼康，什么零件都能做，但又总是差点意思，稼动率最多只能达到50%左右，连大陆的芯片代工厂都看不上，生产出的设备，只能卖给三星、LG、京东方用来生产面板。曾经的霸主尼康，自此彻底零落在历史的尘埃之中。
殷鉴于前，面对这样的军令状，茅台放哪了？来一口，压压惊！
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