為便於理解,我簡單贅述一下ASML的封王之路。
在上世紀80年代,光刻機市場的王者是GCA與日本尼康。90年代初的時候,對相機和光學造詣頗深的尼康一度占據了光刻機市場60%以上的份額。變化發生在摩爾定律對技術指數化升級的更高要求之後。上百納米時代的光刻機,門檻其實並不高,所以彼時才三十多人的ASML也能進去分一杯羹。一旦要求提高到幾十,乃至十幾納米,上世紀90年代光源波長被卡死在193nm就成了光刻機的死結。
最後結果我們知道了,尼康沉迷於光源幹刻法而被淘汰出局,ASML的浸潤式技術路線,突破了這個門檻。荷蘭的ASML成了這個領域的壟斷者,占據了市場80%的市場份額。 尼康的出局與ASML的後來居上,看似技術路線選擇的偶然,實則大謬。
事實上,在ASML制造出第一台浸潤式光刻機的第二年,實力雄厚的行業老大尼康就迅疾跟上,造出了質量不相上下的浸潤式光刻機。 問題在後勁,在全產業鏈能力。EUV光刻機幾乎逼近物理學、材料學以及精密制造的極限。光源功率要求極高,透鏡和反射鏡系統也極致精密,光學系統復雜到令人崩潰,還需要真空環境,配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高。別說是日本與荷蘭,就算是美國,想要一己之力自主突破這項技術,也是癡人說夢。
ASML背後,是英特爾1997年牽頭攢起的一個叫EUV LLC的聯盟,這個聯盟包括了彼時最牛掰的科技公司摩托羅拉、AMD、IBM,後來的三星,台積電,以及美國能源部三大國家實驗室:勞倫斯利弗莫爾國家實驗室、桑迪亞國家實驗室和勞倫斯伯克利實驗室。6年時間裡,EUV LLC的研發人員發表了數百篇論文,大幅推進了EUV技術的研究進展。2009年,美國又送給阿斯麥一份大禮:美國Cymer公司研發出EUV所需的大功率光源,直接供應ASML——這是光刻機的核心零件,這樣頂尖的技術,全球范圍也不超過三家。 當下ASML的光刻機,光源設備來自美國、蔡司鏡頭來自德國,光學技術由日本提供,制程技術則是台積電和三星支持。毫不誇張的說,阿斯麥雖是一家荷蘭企業,但崛起的背後,其實是一場地地道道的美國牽頭、全球合作式成功。惟其如此,它才能喊出“如果我們交不出EUV,摩爾定律就會從此停止”。
事實上,英特爾為了防止核心設備供應商一家獨大,其實一直還在挺尼康並采購其設備。但單打獨斗、自研為主的尼康,什麼零件都能做,但又總是差點意思,稼動率最多只能達到50%左右,連大陸的芯片代工廠都看不上,生產出的設備,只能賣給三星、LG、京東方用來生產面板。曾經的霸主尼康,自此徹底零落在歷史的塵埃之中。
殷鑒於前,面對這樣的軍令狀,茅台放哪了?來一口,壓壓驚!